自动单面套刻光刻机
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自动单面套刻光刻机

用于晶圆套刻,采用6相机对位,经济批量200片,对位精度±1um,满足4-6寸晶圆。对位软件采用AI深度学习算法,对位速度快,精度高,NG率低,曝光时间≤3s时,最高可达350pcs/H。
  • 商品名称: 自动单面套刻光刻机
  • 产品描述
  • 序号

    关键参数

    技术说明

    备注

    1

    适用晶片尺寸

    4-5/5-6英寸

     

    2

    适用光刻板尺寸

    5-6/6-7英寸

     

    3

    光刻板调节方式

    CCD视觉自动对位

     

    4

    相机组件

    3工位视觉抓取定位(6个CCD)

     

    5

    对位精度

    ±1um

     

    6

    经济批量

    200 PCS/批,可循环上料;

     

    7

    设备UPH

    对位≥260-300pcs/H;非对位≥350pcs/H

    曝光时长≤5s

    8

    曝光模式

    接近/软接触模式(胶厚≤8um)

     

    9

    光刻胶类型、厚度

    正胶/负胶/厚度

    客户提供

    10

    光照面积

    160x160mm/200mmX200mm

    客户选配

    11

    曝光时间调解

    0.1至99.9秒(可调节精度0.1s)

     

    12

    设备洁净度

    搭载高效送风模块,千级/百级洁净度

     

    13

    设备控制方式

    触摸屏+PLC控制+视觉主机

     

    14

    光源类型

    UVLED

     

    15

    光照不均匀性

    ≤±2.5%

     

    16

    中心波长

    单波365nm/混波365、405nm

    客户选配

    17

    辐照强度

    5-55mw/cm²/5-80mw/cm²可调

     

    18

    辐照强度衰减

    5000小时以内<30%(计算累计点灯时间)

     

    19

    冷却方式

    水循环冷却

     

    20

    设备尺寸

    1950*1350*2200(2250含高效)

     

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