自动双对准单面光刻机

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自动双对准单面光刻机

专注双面对准单面曝光场景，依托专用晶圆机器人实现精准搬运。采用4相机协同AI深度学习算法软件，搭载自研高精度闭环对位系统和动态补偿算法，可实现正面对准±1um，背面对准±1.5um的光刻精度。

商品名称：自动双对准单面光刻机

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产品描述

序号	关键参数	技术说明
1	适用晶片尺寸	4-8 英寸
2	曝光模式	接近/接触/真空模式
3	曝光系统	单工位曝光
4	光刻板调节方式	CCD 视觉自动对位
5	相机组件	TSA+BSA 对准(4 个精对位，2 个辅助对位)
6	对准精度	MZW-DSMA2024V1 正面对准±1um，背面对准±1.5um
7	对位标记	圆形、菱形、十字等
8	经济批量	4-8 英寸,4+1 CAS（1 为 NG CAS）
9	设备 UPH	4-8 英寸正面≥170pcs/H，背面≥150pcs/H (曝光时长5s)
10	分辨率	硬接触： 1.5um ;软接触 2um,真空接触： 1um ; 接近： 3-5um(间隙小于 10um，PR 厚度≤1.5um，正胶)
11	光照有效面积	4-8 英寸 230mmX230mm
12	曝光时间调解	0.1 至 99.9 秒(可调节精度 0.1s)
13	光源类型	UVLED
14	光照均匀性	≤ ±2.5％
15	平行度、光偏角	1.5 °/0.5 °
16	中心波长	单波 365nm/或选配混波 365、405nm
17	辐照强度	5-50mw/cm² 可调
18	辐照强度衰减	5000H 小时以内＜30%
19	灯源冷却系统	自带灯源冷却系统
20	对位平台精度	1um 套刻≤±0.5um
21	Z 轴升降平台精度	1um 套刻≤±0.5um
22	相机识别精度	1um 套刻 0.7um
23	搬运方式	专用晶圆机器人+陶瓷手臂
24	巡边、对中方式	CCD 巡边对中，避免过度夹持晶圆
25	调平系统	三点调平机构
26	减震系统	设备自带减震系统，避免外界震动干扰
26	对位 NG 率	靶标分数≥90%，NG 率≤0.5% 靶标分数≥70%，NG 率≤1.5%
27	设备洁净度	搭载高效送风模块，百级洁净度
28	设备控制方式	触摸屏+PLC 控制+视觉主机
29	设备尺寸	4-8 英寸 170012002250(2250 含高效)
30	晶圆翻转模块	翻转 180 °后进行另一面曝光

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