自动一次双面光刻机
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自动一次双面光刻机

用于双面一次光刻,对位精度±1um,满足4-6寸晶圆。采用自主研发的高精度对平系统,可实现晶圆厚度自动测量、分离对准及曝光。曝光时间≤3s时,对位周期13片,最高可达220pcs/H。
  • 商品名称: 自动一次双面光刻机
  • 产品描述
  • 序号

    关键参数

    技术说明

    备注

    1

    适用晶片尺寸

    4-5/5-6英寸

     

    2

    适用光刻板尺寸

    5-6/6-7英寸

     

    3

    光刻板调节方式

    CCD视觉自动对位

     

    4

    相机组件

    2工位视觉抓取定位(3个CCD)

     

    5

    双面对准精度

    ±1um;

     

    6

    经济批量

    100 PCS/批

     

    7

    设备UPH

    ≥150pcs/H(曝光时长5s)

    曝光时长≤5s

    8

    曝光模式

    软接触模式/接近

     

    9

    光刻胶类型,厚度

    正胶/负胶/厚度≤10um

    客户提供

    10

    光照面积

    160mmX160mm

    客户定制

    11

    曝光时间调解

    0.1至99.9秒(可调节精度0.1s)

     

    12

    设备洁净度

    搭载高效送风模块,百级洁净度

     

    13

    设备控制方式

    触摸屏+PLC控制+视觉主机

     

    14

    光源类型

    UVLEDx2

     

    15

    光照不均匀性

    ≤±2.5%

    客户定制

    16

    中心波长

    365±5nm

    客户定制

    17

    辐照强度

    5-55mw/cm²可调

    客户定制

    18

    辐照强度衰减

    5000H小时以内<30

     

    19

    设备尺寸

    1750*1250*2250(2250含高效)

     

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