自动双面套刻光刻机
+
  • 自动双面套刻光刻机

自动双面套刻光刻机

专注双面对准双面曝光场景,依托专用晶圆机器人实现精准搬运。采用4相机协同AI深度学习算法软件,搭载自研高精度对位系统和高精度调平机构,可实现±1.5um的套刻精度。
  • 商品名称: 自动双面套刻光刻机
  • 产品描述
  • 序号

    关键参数

    技术说明

    备注

    1

    适用晶片尺寸

    4-5/5-6英寸

     

    2

    适用光刻板尺寸

    5-6/6-7英寸

     

    3

    光刻板调节方式

    CCD视觉自动对位

     

    4

    相机组件

    4个精对位,2个辅助对位

     

    5

    对准精度

    套刻精度±1.5um

     

    6

    经济批量

    100 PCS/批

     

    7

    设备UPH

    ≥140pcs/H(曝光时长5s)

    曝光时长≤5s

    8

    曝光模式

    接近/软接触模式

     

    9

    光刻胶类型、厚度

    正胶/负胶/厚度≤10um

    客户提供

    10

    光照面积

    160mmX160mm

    客户定制

    11

    曝光时间调解

    0.1至99.9秒(可调节精度0.1s)

     

    12

    设备洁净度

    搭载高效送风模块,百级洁净度

     

    13

    设备控制方式

    触摸屏+PLC控制+视觉主机

     

    14

    光源类型

    UVLEDx2

     

    15

    光照不均匀性

    ≤±2.5%

    客户定制

    16

    中心波长

    单波365nm/混波365、405nm

    客户定制

    17

    辐照强度

    5-55mw/cm² / 5-80mw/cm² 可调

    客户定制

    18

    辐照强度衰减

    5000H小时以内<30%

     

    19

    设备尺寸

    1750*1200*2350(2350含高效)

     

产品留言

请提供以下有效信息,我们将尽快与您联系。