- 产品描述
-
序号
关键参数
技术说明
备注
1
适用晶片尺寸
4英寸/5英寸
4-6英寸
2
适用光刻板尺寸
5英寸/6英寸
5-7英寸
3
光刻板调节方式
XY轴手动调节
CCD对位+XY轴自动调节
4
设备UPH
≥250-280pcs/H
≥350-420pcs/H
曝光时间影响UPH
(曝光时长≤5s)
(曝光时长≤5s)
5
曝光模式
硬接触
接近式/软接触
6
光刻胶类型 ·厚度
正胶/负胶 厚度≤10um
客户提供
7
光照面积
160mmX160mm
160x160mm
8
曝光时间调解
0.1至99.9秒(可调节精度0.1s)
9
设备洁净度
千级洁净度
10
设备控制方式
触摸屏+PLC控制
11
设备尺寸
1280*1180*2000(2250含FFU)
1400*1200*2000(2250含FFU)
12
光源类型
UVLED
13
光照不均匀性
≤±5%
≤±2.5%
客户选配
14
中心波长
365nm单波
客户选配
15
辐照强度
散光5-70 mw/cm²
单波5-55mw/cm²
客户选配
16
平行半角
>5°
1.5°
17
辐照强度衰减
5千小时以内<30%(计算累计点灯时间)
18
冷却方式
水循环冷却
19
晶片传送方式
高精度单轴机器人
产品留言
请提供以下有效信息,我们将尽快与您联系。