自动一次接近光刻机
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  • 自动一次接近光刻机

自动一次接近光刻机

只用于首次不对位光刻,产品性价比高,经济批量200片,可循环上料,满足4-6寸晶圆。采用接近式光刻,破片率低,光刻板寿命长,曝光时间3s时,最高速度可达460pcs/H。
  • 商品名称: 自动一次接近光刻机
  • 产品描述
  • 序号

    关键参数

    技术说明

    备注

    1

    适用晶片尺寸

    4英寸/5英寸

    4-6英寸

     

    2

    适用光刻板尺寸

    5英寸/6英寸

    5-7英寸

     

    3

    光刻板调节方式

    XY轴手动调节

    CCD对位+XY轴自动调节

     

    4

    设备UPH

    ≥250-280pcs/H

    ≥350-420pcs/H

    曝光时间影响UPH

    (曝光时长≤5s)

    (曝光时长≤5s)

    5

    曝光模式

    硬接触

    接近式/软接触

     

    6

    光刻胶类型 ·厚度

    正胶/负胶 厚度≤10um

    客户提供

    7

    光照面积

    160mmX160mm

    160x160mm

     

    8

    曝光时间调解

    0.1至99.9秒(可调节精度0.1s)

     

    9

    设备洁净度

    千级洁净度

     

    10

    设备控制方式

    触摸屏+PLC控制

     

    11

    设备尺寸

    1280*1180*2000(2250含FFU)

    1400*1200*2000(2250含FFU)

     

    12

    光源类型

    UVLED

     

    13

    光照不均匀性

    ≤±5%

    ≤±2.5%

    客户选配

    14

    中心波长

    365nm单波

    客户选配

    15

    辐照强度

    散光5-70 mw/cm²

    单波5-55mw/cm²

    客户选配

    16

    平行半角

    >5°

    1.5°

     

    17

    辐照强度衰减

    5千小时以内<30%(计算累计点灯时间)

     

    18

    冷却方式

    水循环冷却

     

    19

    晶片传送方式

    高精度单轴机器人

     

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